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奈米投影曝光顯影技術

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壹、研究介紹


  在過去這幾年,因為對電子、光電、生醫元件尺寸縮小的需求增加,所以奈米微影技術被大量重視;在各種微影技術中,奈米壓印微影技術是最受歡迎的,它被認為是可大量生產、低成本、快速製程的技術,並可使奈米圖形完美的翻印在基板上。但是奈米壓印微影技術的母板是用電子束顯影技術製造,而此製作過程有點複雜;故我們在此研究中提出一個新型微影技術 奈米投影曝光顯影技術,此技術利用聚二甲基矽氧烷基板表面可自主裝形成干涉基板,來製造明確尺寸的奈米長條狀結構。
 

  首先,簡易地在彈性透明聚二甲基矽氧烷基板作出自主裝形成並可調變的奈米波浪結構,而此結構可作為奈米投影曝光顯影技術的平涉模板,然後再藉由此技術可製造出所需奈米結構大小或特定光頻的表面電漿奈米柵欄。然而,此簡易、便宜、快速的奈米投影曝光顯影技術可實用至大面積的表面電漿奈米元件製作,其相關波長範圍可從近紅外光至可見光波段,所相關應用的元件則包括光學感測器、光學耦合器、濾光器 … 等。
 
 

 


貳、參考文獻

 

  1. Fang-Tzu Chuang, Pai-Yen Chen, Yu-Wei Jiang, Mohamed Farhat, Hung-Hsin Chen, Yu-Cheng Chen, and Si-Chen Lee , Nanoprojection lithography using self-assembled interference modules for manufacturing plasmonic gratings ,” IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS, VOL. 24, NO. 15, 2012

 

 

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